Trion Orion PECVD

Deposition


Orion PECVD


Das Orion Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition System produziert Produktionsqualitätsfolien...

MORE INFO

Integrated IPA Drying


VaporDry Trockner


MEIs VaporDry, der integrierte IPA-Trocknungsprozess ist eine Option für die...

MORE INFO
Trion Atlas

Etching


Atlas


Die Kosten für neue Stripping-Systeme sind in unzumutbare Höhen gestiegen....

MORE INFO

ALD


Atomic Classic


Substratgröße: 4 ~ 8” Wafer Thermischer ALD-Prozess Laminarer Gasstrom Gasversorgungssystem:...

MORE INFO

ALD


Atomic Premium


Substratgröße: 4 ~ 12” Wafer Thermischer ALD-Prozess (Plasma-Prozess verfügbar) Gasversorgungssystem:...

MORE INFO

ALD


Atomic Shell


Oberflächenfunktionalisierung und Core-Shell-Partikel Reaktorvolumen: 100 cm³ ~ 500 cm³ Filtergröße:...

MORE INFO

ALD


Atomic Mega


Erhältlich für 4“ bis 12“ Wafer Batch-Vertikalofen ALD Substratgröße: 4...

MORE INFO
Automegasamdri® 938

CPD: Critical Point Dryer


Automegasamdri®-938


Verarbeitung von bis zu fünf 8-Zoll-Wafer pro Prozesslauf Programmierbare Touchscreen-Schnittstelle...

MORE INFO

CPD: Critical Point Dryer


Automegasamdri®-936


Verarbeitung von bis zu fünf 6-Zoll-Wafer pro Prozesslauf Programmierbare Touchscreen-Schnittstelle...

MORE INFO

CPD: Critical Point Dryer


Autosamdri®-934


Verarbeitung von bis zu fünf 4-Zoll-Wafer pro Prozesslauf Programmierbare Touchscreen-Schnittstelle...

MORE INFO