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Ihr Partner
Unseren Erfolg verdanken wir der Pflege enger Kunden- und Lieferantenbeziehungen und der Anpassung unserer Produktpalette an die Anforderungen des Marktes. Durch die Beschaffung von Produkten und die Bereitstellung von Servicelösungen mit einem guten Preis-Leistungs-Verhältnis und einem technischen Vorteil möchte S3 Alliance der Partner sein, dem Sie vertrauen können.
- Eine Allianz, dieselbe Philosophie, dieselben Ziele
- Lokale Vertriebs- und Servicepräsenz in Europa
- Wir sprechen die Landessprache und sind kultursensibel.
- Kompetent erfahrener Vertriebs-, Service- und Engineering-Support
- Anerkannter Außendienst mit starken Kundenbeziehungen an allen Produktionsstandorten
- Schnelle Reaktionszeiten und Servicepakete
- Kundenschulung
- Laufender Gerätesupport zur Steigerung der Produktivität und Verfügbarkeit sowie Fähigkeit zur Nachrüstung usw.
Ausgewählte Produkte und Dienstleistungen
Desktop REM
Desktop-Rasterelektronenmikroskop zu einem attraktiven Preis
- Kompakt und leicht
- Hochauflösend. (*200k@30kV)
- 100% motorisierte Plattform & 4-Kanal BSE als Standardmodell
- Schnelle und einfache Bedienung (in 90s betriebsbereit)
- Kein e-Strahl Ausrichtung notwendig
- Integrierte EDS von jedem Hersteller (Option)
- Sehr attraktiver Preis
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Desinfektion
MiraSAT, mit Isopropanol vorgetränkte Mikrofasertücher
um gegen den starken Lieferengpass bei Desinfektionsmittel vorzugehen und den erhöhten Desinfektion,- und Reinigungsbedarf zu unterstützen.
- Schützt VOC-empfindliche Fertigungsmodule wie Lithografie, Metrologie und CVD vor Lösungsmitteldämpfen.
- Die gleichmäßige, konsistente Benetzung des Wischers ermöglicht hervorragende Reinigungsergebnisse bereits beim ersten Durchgang und reduziert die Reinigungszeit.
- Eliminiert das Risiko einer Kreuzkontamination durch verschmutzte Sprühflaschen
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Wafer Reiniger
ZEUS Wafer Reinigungssystem
Hochleistungs-Waferreiniger, der fünf Reinigungsprozesse nacheinander durchführt und vollständig anpassbar ist.
- Führt chemisches Sprühen, megasonisches Sprühen, Pad-Polieren, PVA-Bürstenreinigung und Spin-Trocknung durch.
- Jedes Modul kann unabhängig programmiert und die Reinigungsreihenfolge angepasst werden.
- Optimale Reinigungsleistung durch gleichzeitige Anwendung aller fünf Reinigungstechniken.
- Beseitigt die Notwendigkeit mehrerer Reinigungssysteme für unterschiedliche Wafergrößen.
- Ermöglicht eine sofortige Bewertung der Reinigungsleistung mittels Partikelinspektionsgeräten.