by GNP
CMP
CMP POLI 610
CMP-Anlage für harte und inerte Wafer, hoher Polierdruck, bis zu 2 Köpfe, bis zu 200mm Wafer...
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CMP
S3 Alliance bietet CMP-Maschinen, die auf Ihre Forschungs- und Entwicklungs- oder Produktionsanforderungen zugeschnitten sind.
by GNP
by GNP
CMP, Nassprozesse
Post CMP Scrubber 326L
Kassette zu Kassette, Stand-alone, 3-6 Zoll, linear doppelseitiger PVA-Scrubber
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by GNP
CMP, Nassprozesse
Post CMP Scrubber 412RL
Manuelle Beladung, Stand-alone automatisierter, 4-12 Zoll, doppelseitiger PVA-Scrubber
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by GNP
CMP, Nassprozesse
Post CMP Scrubber 412S
Manuelle Beladung, Stand-alone automatisierter, 4-12 Zoll, doppelseitiger PVA-Einzelkammer Scrubber
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by GNP
CMP, Nassprozesse
Post CMP Scrubber 812L
Kassette zu Kassette, Stand-alone, 8-12 Zoll, linear doppelseitiger PVA-Scrubber
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by AXUS (Italy and UK only)
by AXUS (Italy and UK only)
by AXUS (Italy and UK only)
CMP
Crystal Carrier upgrade
Crystal Carrier upgrade ist für ultradünnes und zerbrechliches Wafer-Handling mit 4 Druckzonen konzipiert.
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by AXUS (Italy and UK only)
by AXUS (Italy and UK only)
CMP, Nassprozesse
OnTrak DSS-200 Serie 1 Post CMP Scrubber
Voll automatisierter 200mm Wafer POST CMP Scrubber.
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by AXUS (Italy and UK only)
CMP, Nassprozesse
OnTrak DSS-200 Synergy™ Post CMP Scrubber
Double-sided PVA Scrubber für 100-200mm Wafers.
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by AXUS (Italy and UK only)
CMP, Nassprozesse
OnTrak DSS200 Serie 2 Post CMP Scrubber
Voll automatisierter 200mm Wafer POST CMP Scrubber.
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by AXUS (Italy and UK only)
CMP
AXUS CMP Foundry-Service
CMP Prozessentwicklung bis hin zum Standardproduktions-Foundry Service.
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