Sahara-Buffing-Pad

Reinigungsmittel


Sahara Buffing Pad


Derzeit gängige Desinfektionsverfahren hinterlassen Desinfektionsmittelrückstände auf Reinraumoberflächen, die zu Problemen...

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Beschichtung


Atomic Classic


Substratgröße: 4 ~ 8” Wafer Thermischer ALD-Prozess Laminarer Gasstrom Gasversorgungssystem:...

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Beschichtung


Atomic Premium


Substratgröße: 4 ~ 12” Wafer Thermischer ALD-Prozess (Plasma-Prozess verfügbar) Gasversorgungssystem:...

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Beschichtung


Atomic Shell


Oberflächenfunktionalisierung und Core-Shell-Partikel Reaktorvolumen: 100 cm³ ~ 500 cm³ Filtergröße:...

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Beschichtung


Atomic Mega


Erhältlich für 4“ bis 12“ Wafer Batch-Vertikalofen ALD Substratgröße: 4...

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Automegasamdri® 938

CPD: Critical Point Trockner


Automegasamdri®-938


Verarbeitung von bis zu fünf 8-Zoll-Wafer pro Prozesslauf Programmierbare Touchscreen-Schnittstelle...

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CPD: Critical Point Trockner


Automegasamdri®-936


Verarbeitung von bis zu fünf 6-Zoll-Wafer pro Prozesslauf Programmierbare Touchscreen-Schnittstelle...

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CPD: Critical Point Trockner


Autosamdri®-934


Verarbeitung von bis zu fünf 4-Zoll-Wafer pro Prozesslauf Programmierbare Touchscreen-Schnittstelle...

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Schleifscheibe hinten, Backgrinding

Schleifen


Schleifscheibe


Backgrinding Schleifscheibe Dies ist ein Diamant-Schleifwerkzeug zum Schleifen der Rückseite...

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T-Serie 25, T25 Hochreine Chemische Pumpe von Trebor

Nassprozesse


T-Serie 25


Die luftbetriebenen Doppelmembran-Chemiepumpen der T-Serie von Trebor eignen sich hervorragend...

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Wafer-Handling


Wafer Carriers


150mm Teflon Wafer Carrier Dieser chemikalienresistente und elektrisch nichtleitende Wafer...

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