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CMP, Nassprozesse
ZEUS Wafer Reinigungssystem
Halbautomatischer Einzelwafer-Reiniger, der fünf Reinigungsprozesse durchführt und vollständige Personalisierung ermöglicht.
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CMP
CMP POLI 610
CMP-Anlage für harte und inerte Wafer, hoher Polierdruck, bis zu 2 Köpfe, bis zu 200mm Wafer...
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CMP, Nassprozesse
Post CMP Scrubber 412RL
Manuelle Beladung, Stand-alone automatisierter, 4-12 Zoll, doppelseitiger PVA-Scrubber
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CMP, Nassprozesse
Post CMP Scrubber 412S
Manuelle Beladung, Stand-alone automatisierter, 4-12 Zoll, doppelseitiger PVA-Einzelkammer Scrubber
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CMP, Nassprozesse
Post CMP Scrubber 326L
Kassette zu Kassette, Stand-alone, 3-6 Zoll, linear doppelseitiger PVA-Scrubber
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CMP, Nassprozesse
Post CMP Scrubber 812L
Kassette zu Kassette, Stand-alone, 8-12 Zoll, linear doppelseitiger PVA-Scrubber
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