
Nassprozesse
HF-kompatible Wafer-/Chip-Halter
Entwickelt und hergestellt für den Einsatz mit den Kritisch-Punkt-Trocknern von Tousimis, verwenden viele Kunden diese Wafer-...
INFOEntwickelt und hergestellt für den Einsatz mit den Kritisch-Punkt-Trocknern von Tousimis, verwenden viele Kunden diese Wafer-...
INFOVerarbeitung von bis zu fünf 8-Zoll-Wafer pro Prozesslauf Programmierbare Touchscreen-Schnittstelle Das erste Gerät mit vorheriger Überprüfung...
INFOVerarbeitung von bis zu fünf 6-Zoll-Wafer pro Prozesslauf Programmierbare Touchscreen-Schnittstelle Das erste Gerät mit vorheriger Überprüfung...
INFOVerarbeitung von bis zu fünf 4-Zoll-Wafer pro Prozesslauf Programmierbare Touchscreen-Schnittstelle Das erste Gerät mit vorheriger Überprüfung...
INFONeuer digitaler Critical Point Dryer für mehrere Anwendungen Zum Patent angemeldete „Stasis-Software“ für anspruchsvolle Probentypen Erhältlich...
INFOVerarbeiten Sie bis zu 5 x 1″ Wafer. Automatischer Supercritical Point Dryer Minimale Anforderungen an das...
INFOVerarbeitung von bis zu 5 x 4″ Wafer Automatischer überkritischer Punkttrockner Minimale Anforderungen an das Versorgungsunternehmen...
INFONeuer digitaler kritischer Punkttrockner für mehrere Anwendungen Zum Patent angemeldete „Stasis-Software“ für anspruchsvolle Probentypen Erhältlich in...
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