by TOUSIMIS
Nassprozesse
HF-kompatible Wafer-/Chip-Halter
Entwickelt und hergestellt für den Einsatz mit den Kritisch-Punkt-Trocknern von Tousimis, verwenden viele Kunden diese Wafer-...
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CPD: Critical Point Trockner
Automegasamdri®-938
Verarbeitung von bis zu fünf 8-Zoll-Wafer pro Prozesslauf Programmierbare Touchscreen-Schnittstelle Das erste Gerät mit vorheriger Überprüfung...
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by TOUSIMIS
CPD: Critical Point Trockner
Automegasamdri®-936
Verarbeitung von bis zu fünf 6-Zoll-Wafer pro Prozesslauf Programmierbare Touchscreen-Schnittstelle Das erste Gerät mit vorheriger Überprüfung...
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by TOUSIMIS
CPD: Critical Point Trockner
Autosamdri®-934
Verarbeitung von bis zu fünf 4-Zoll-Wafer pro Prozesslauf Programmierbare Touchscreen-Schnittstelle Das erste Gerät mit vorheriger Überprüfung...
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by TOUSIMIS
CPD: Critical Point Trockner
Autosamdri®-931 (Reinraumsysteme)
Neuer digitaler Critical Point Dryer für mehrere Anwendungen Zum Patent angemeldete „Stasis-Software“ für anspruchsvolle Probentypen Erhältlich...
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CPD: Critical Point Trockner
Autosamdri®-815, Series B
Verarbeiten Sie bis zu 5 x 1″ Wafer. Automatischer Supercritical Point Dryer Minimale Anforderungen an das...
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CPD: Critical Point Trockner
Autosamdri®-815B, Serie B
Verarbeitung von bis zu 5 x 4″ Wafer Automatischer überkritischer Punkttrockner Minimale Anforderungen an das Versorgungsunternehmen...
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CPD: Critical Point Trockner
Autosamdri®-931 (Nicht-Reinraumsysteme)
Neuer digitaler kritischer Punkttrockner für mehrere Anwendungen Zum Patent angemeldete „Stasis-Software“ für anspruchsvolle Probentypen Erhältlich in...
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