by FEMTO SCIENCE Inc.
Seitliche Fotografie des Hochvakuum-ICP-Ätzer mit Load-Lock und Dual-Source-Technologie von Femto Science.

Trockenprozesse & UHP


VITA-HVICP


Hochvakuum-ICP-Ätzer mit Load-Lock und Dual-Source-Technologie  

INFO
Back to Top
by FEMTO SCIENCE Inc.
Seitenansicht des hochpräzisen RIE-Ätzsystems für 12"-Wafer von Femto Science.

Trockenprozesse & UHP


VITA 12 RIE-Ätzsystem


Für 12″-Wafer: Hochpräzise, Patentierte Gasführung, 13,56 MHz RF-Generator und intuitive Touch-Steuerung.

INFO
Back to Top
by FEMTO SCIENCE Inc.
45-Grad-Bild des hochpräzisen RIE-Ätzsystems für 8"-Wafer von Femto Science.

Trockenprozesse & UHP


VITA 8 RIE-Ätzsystem


Für 8″-Wafer, hochpräzise: Patentierte Gasführung, 13,56 MHz RF-Generator und intuitive Touch-Steuerung.

INFO
Back to Top