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Produkttyp:

Equipment


Anwendung:

Trockenprozesse & UHP


Produktbeschreibung:

 

Dual-Power Plasmaquelle: RIE (600W) mit leistungsstarker ICP-Quelle (bis 1000W) für die unabhängige Steuerung von Ionendichte und -energie.
Integriertes Load-Lock System: Manuelles Beladen mit automatisiertem 1-Achsen-Transferroboter für hohe Prozessstabilität und Zeitersparnis.
Anisotropes Ätz-Design: Vertikale Kammeranordnung, speziell optimiert für ionendominiertes Ätzen und extrem steile Flankenprofile.
Effiziente Substratkühlung: Helium-Rückseitenkühlung mit mechanischem Clamp sorgt für optimale Temperaturkontrolle während des Ätzprozesses.
Korrosionsbeständige Monoblock-Kammer: Massive Aluminiumbauweise ohne Schweißnähte, speziell behandelt für Prozesse mit aggressiven Gasen.
Umfassende Vakuum-Sensorik: Kombinierte Druckmessung durch Ionen-, Konvektions- und Baratron-Gauges für lückenlose Überwachung.
Hochpräzise Gasführung: Patentierte 3-Stufen-Showerheads und Platz für bis zu 12 MFC-Gaskanäle mit 1/4″ VCR-Verschraubungen.
Modernste Industriesteuerung: Hochleistungsrechner mit EtherCAT-IO-Modulen für maximale Zuverlässigkeit und Echtzeit-Monitoring.
Smart User Interface: Vollautomatischer Betrieb, grafische Prozessanalyse und Remote-Zugriff für Wartung und Fernsteuerung.
Rezeptmanagement: KI-gestützt

 


High-vacuum ICP-RIE

 

Ätzmodus High-Vacuum ICP-RIE (Inductively Coupled Plasma)
Kammer-Design Vertikaler Typ, Monoblock-Aluminium (nicht geschweißt), korrosionsbeständig beschichtet.
Prozessführung Patentierte 3-Stufen-Gas-Showerheads für homogene Verteilung
Load-Lock Modul Manueller Wafer-Einschub mit automatisiertem 1-Achsen-Transferroboter
ICP-Quelle 13,56 MHz, Leistung bis zu 1000 W
Bias-Quelle 13,56 MHz / 12,56 MHz, Leistung bis zu 600 W
Substrat-Handling Keramikgeführter Chuck mit mechanischem Clamp & Helium-Rückseitenkühlung
Gas-Management Bis zu 12 MFC-Gaskanäle, chloridgas-kompatibel, 1/4″ VCR-Fittings
Vakuum-System Kombinierte Sensorik (Ionen-/Konvektion-/Baratron-Gauge) inkl. Adapted Pressure Control
Steuerung Industrie-PC mit EtherCAT-IO, Remote-Zugriff & Passwort-Ebenen
Systemmaße 1.800 x 800 x 1.750 mm (B x T x H)

  • Verbindungshalbleiter
  • Fehleranalyse
  • Forschung und Entwicklung (F&E)
  • Pilotlinie (oder Vorserienfertigung)



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