By FEMTO SCIENCE Inc.
Supplier Info
Produkttyp:
Equipment
Anwendung:
Trockenprozesse & UHP
Produktbeschreibung:
| Hochpräzises RIE-Verfahren: | Optimiert für reaktives Ionenätzen (RIE), um präzise Ätzprofile zu erzielen. |
| Robuste Kammerkonstruktion: | Gefertigt aus einem massiven Aluminiumblock (keine Schweißnähte), der Gaslecks minimiert und die Haltbarkeit erhöht. |
| Ausgezeichnete Gleichmäßigkeit: | Patentiertes Gasflussdesign mit 3-stufigen Duschköpfen für homogene Ergebnisse auf bis zu 8-Zoll-Wafern. |
| Leistungsstarker RF-Generator: | 13,56 MHz Frequenz mit bis zu 300 W Leistung (Opt. 600 W) und automatischer Impedanzanpassung für stabile Prozesse. |
| Präzises Gasmanagement: | Bis zu 4 Gasleitungen mit reaktionsschnellen MFCs (Mass Flow Controllers) für exakte Flussraten. |
| Fortschrittliches Vakuumsystem: | Ausgestattet mit einem Soft-Start-Ventil und einer Drosselklappe für präzise Druckkontrolle. |
| Intelligente Steuerung: | DSP-basierte Steuerung mit einem 10,2-Zoll-Touchscreen für intuitive Bedienung und Echtzeitüberwachung. |
| Flexible Rezeptverwaltung: | Einfaches Speichern, Laden und Übertragen von Prozessrezepten über USB. |
| Umfassende Überwachung: | Grafische Anzeige der Prozessparameter in Echtzeit. |
| Kompaktes Design: | Platzsparende Systemabmessungen, einschließlich eines externen Kühlers und einer Hochleistungs-Vakuumpumpe. |
Reaktive Ionenätzung – Vertikale Kammer
| Prozess-Modus | RIE |
| Größe der Elektrode | 9,2 Zoll (lädt bis zu 8″ Wafer) |
| RF-Generator | 13.56MHz / 300W (Opt. 600W) |
| MFC | Max. 200 sccm |
| Manometer Druck | Atm ~ 5 x 10-4 Torr |
| Bedienung | Manuell & Automatisch |
| Geometrie | B.680 x T.1.030 x H.1.200 (mm) |
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