NDS 412/408/406 Spin Cleaner (4″ bis 12″)

Produkttyp: Equipment

Anwendung: Nassprozesse

Produktbeschreibung:

Die NDS Wafer Cleaner Serie wurde für die automatische Reinigung von Halbleiter-Wafern mit einem zuverlässigen und effizienten Reinigungsprozess entwickelt. Die Systeme verfügen über eine Zerstäubungs-Reinigungsdüse, einen Metalltisch sowie eine SPS-Steuerung mit komfortablem Touchpanel für eine präzise Prozesssteuerung. Die einstellbare Reinigungszeit und Drehzahl ermöglichen eine flexible Prozessführung und gewährleisten eine gleichbleibende Reinigungsleistung für unterschiedliche Anforderungen in der Waferverarbeitung.

NDS bietet drei Wafer Spin Cleaner:

• NDS 412: Wafer-Halter geeignet für 12 inch Wafer
• NDS 408: Wafer-Halter geeignet für 8 inch Wafer
• NDS 406: Wafer-Halter geeignet für 6 inch Wafer

NDS 412/408/406 Wafer Spin Cleaner bietet:

• Automatische Reinigung mit zerstäubender Reinigungsdüse
• Bühne aus porösem Metall zur Befestigung der Wafer
• reinigungsdauer von 5 bis 999s
• Möglichkeit von 4″ bis 12″ Wafer
• SPS mit Touchpanel zum Einrichten von Rezepten
• Spining-Bereich von 400 bis 2800U/min mit unterschiedlichen Geschwindigkeitsanpassungen