YM-S1-M Wafer Spin Reinigungsmaschine

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By NDS

Supplier Info

Product Type:

Equipment


Application:

Nassprozesse


Product Description:

Manuelle PVA-Bürsten-basierte Einzelwafer-Reinigungsgeräte:

  • in der Lage, 3/4/6/8/12 Zoll Wafer zu verarbeiten
  • Wafer mit Stiftfutter oder Vakuumfutter
  • DIW-basierte Reinigung
  • Spot-Ultraschallwelle
  • PVA-Bürste


  • bis zu 2000rpm
  • N2 Schlag
  • Clean Air Schlag
  • Klasse 100
  • Waschzeit ca. 2min
  • Trocknungszeit ca. 10s

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