By MEI / RENA
Supplier InfoProduct Type:
Equipment
Application:
Wet Process
Product Description:
Der fortschrittlichste Spin Rinse Dryer der Branche.
Der Compass Spin Rinse Dryer (SRD) bietet Funktionen, die man bei noch keinem anderen Hersteller findet. Der Compass für hohe und niedrige Kassetten ist so konzipiert, dass er die Betriebskosten senkt und gleichzeitig alle Ihrer Anforderungen an die Trocknung von Wafern erfüllt bzw. übertrifft. Die zur Steuerung eingesetzte IDX Flexware bietet eine sehr fortschrittliche Prozesssteuerung mit Funktionen die nur nur beim Compass SRD von MEI zu finden sind. Höchste Zuverlässigkeit, Leistung und niedrige Betriebskosten, gepaart mit dem preisgekrönten Support von MEI, ist der Compass Spin Rinse Dryer die Trocknungslösung, der Sie vertrauen können.
Vorteile
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Optionen
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Model | Compass SRD Single | Compass SRD Double |
No. of Dryers | One | Two |
Type | Bench or stand-alone | Stand-alone |
Cassettes | Low profile, high profile | Low profile, high profile |
Chamber Capacity | Multiple wafer sizes for low and high profile cassettes. Available wafer sizes are dependent upon product carrier type |
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Door Opening | Right, left | Right, left |
Voltage (per chamber) | 240 VAC 50 Hz, 8 A | 240 VAC 50 Hz, 15 A |
Facilities | N2: 1/2” O.D. @ 4–6 CFM, 30–35 PSI DI: 1/2” O.D. @ 1.5–2 GPM, Max 25–30 PSI Clean Dry Air: 3/8” OD @ 40–50 PSI, 110–140LPM Drain Connection: 1” NPT |
file_downloadCOMPASS-SRD-LP-HP-Data-Sheet-2015-0-3.pdf
- Drying of wafer batch with up to 25 wafers