by APPLIED QUANTUM MATERIALS INC.
Flasche des H-SiOx Fotolack von AQM. Ein hochreiner Feststoff auf Basis von Silsesquioxan.

Chemikalien & Fotolacke

H-SiOx Resist

als negativer Resist für die Foto- und Elektronenstrahllithografie, speziell für die Herstellung von Nanolithografie-Bauelementen.

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