Halbleiter / MEMS
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About Halbleiter / MEMS
S3 Alliance liefert das Netzwerk und das Produktportfolio, die unseren Kunden Spitzenlösungen bringen. Unsere Zuliefer- und Servicelösungen sind auf die Bedürfnisse des Kunden zugeschnitten, was ihm die Wettbewerbsfähigkeit in einem globalen Markt sichert. Für die Halbleiter/MEMS- Branche beschaffen und bieten wir Qualitätsprodukte zu einem angemessenen Preis. Innerhalb der Branche bieten wir Lösungen in den folgenden Bereichen: Prozessausrüstung, Messtechnik und Behandlungstechnik, Ersatzteile und Verbrauchsartikel, Service und Reparatur.
Wafer Handling
COMET 3 Station
The COMET 3 station is the Operator’s favorite mass wafer...
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Wafer Handling
SORTER OCR 6"/8"
The SORTER OCR 6″/8″ systems are compact, fast, reliable and...
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Wafer Handling
SORTER OCR 12" system
The SORTER OCR 12″ systems are compact, fast, reliable and...
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Chemikalien & Fotolacke
KerfAid™ Dicing Fluid
KerfAid™ Dicing Fluid is the original dicing fluid, setting industry...
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Optische Inspektionssysteme
PrimaScan™ P Serie
Die PrimaScan™ Serie von Wafer- und Panel-Inspektionssystemen bietet eine umfassende...
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Optische Inspektionssysteme
Celero™ PL System
Das Celero™ PL System wurde entwickelt, um der wachsenden Nachfrage...
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Rasterelektronenmikroskopie
K-1 Ionen Sputter Coater
K-1 Ionen Sputter Coater ist ein vollautomatisches Coating-Tool zur Probenpräparation...
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DI-Wassererhitzer
Quantum NXT-R Recirculati...
Trebor’s most advanced Ultra-Pure Water Heating System Recirculation Ultra-Pure Water...
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CMP Verbrauchsmaterial
HVTM/GVTM Series Pad
IV Technologies has been concentrating on developing CMP consumables for...
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Optische Mikroskopie
OptoNano 200
Advanced microscopy technology Resolve down to 137 nm scale with...
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CMP, Nassprozesse
ZEUS Wafer Reinigungssyst...
Halbautomatischer Einzelwafer-Reiniger Das Zeus-Reinigungssystem ist ein Hochleistungs-Waferreiniger, der fünf Reinigungsprozesse...
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Trockenprozesse & UHP
C2200 Automatic CO2 Jet S...
The C2200 CO2 Cleaning System from IMT is a state-of-the-art...
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Trockenprozesse & UHP
C1100 CO2 Cleaning System
The C1100 CO2 Cleaning System from IMT is a cutting-edge...
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Trockenprozesse & UHP
C3100 Automatisches CO2 F...
Das C3100 CO2 Filmframe Wafer Reinigungssystem von IMT wurde entwickelt,...
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Trockenprozesse & UHP
DANDI 3100 CO2 Wafer Rein...
Das DANDI 3100 CO2 Wafer Reinigungssystem von IMT ist eine...
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CMP, Nassprozesse
Aquarius™ A200-sa Wafer...
Aquarius™ Wafer Cleaner Der innovative Aquarius™ Wafer Cleaner von Axus...
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