by Millice
Bild von zwei Karnistern TruClean CL-300 von Millice. Eine halb-wässrige Reinigungslösung von Millice für die Reinigung von Waferoberflächen und Werkzeugen.

Chemikalien & Fotolacke, Wafer-Handling

TruClean CL-300

A semi-aqueous cleaning solution engineered for advanced wafer surface and tool cleaning.

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by APPLIED QUANTUM MATERIALS INC.
Flasche des H-SiOx Fotolack von AQM. Ein hochreiner Feststoff auf Basis von Silsesquioxan.

Chemikalien & Fotolacke

H-SiOx Resist

als negativer Resist für die Foto- und Elektronenstrahllithografie, speziell für die Herstellung von Nanolithografie-Bauelementen.

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by Millice
Abgebildet sind zwei verschiedene Abfüllmengen des KerfAid™ Dicing Fluids von Millice – ein Zusatz zum DI-Wasser beim Wafer-Säge-Prozess.

Chemikalien & Fotolacke

KerfAid™ Dicing Fluid

The original dicing fluid is a wafer-safe additive to DI water during the wafer-dicing process.

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