By FEMTO SCIENCE Inc.
Supplier Info
Produkttyp:
Equipment
Anwendung:
Trockenprozesse & UHP
Produktbeschreibung:
| Hochpräzises RIE-Verfahren: | Optimiert für reaktives Ionenätzen (Reactive Ion Etching) zur Erzielung exakter Ätzprofile. |
| Robuste Kammerkonstruktion: | Gefertigt aus einem massiven Aluminiumblock (keine Schweißnähte), was Gaslecks minimiert und die Langlebigkeit erhöht. |
| Hervorragende Gleichmäßigkeit: | Patentiertes Gasfluss-Design mit 3-stufigem Headshower für homogene Ergebnisse auf bis zu 12-Zoll-Wafern. |
| Leistungsstarker RF-Generator: | 13,56 MHz Frequenz mit bis zu 600W Leistung (Opt. 1.000 W) und automatischer Impedanzanpassung für stabile Prozesse. |
| Präzises Gasmanagement: | Bis zu 4 Gaslinien mit hochreaktionsfähigen MFCs (Mass Flow Controller) für exakte Durchflussmengen. |
| Fortschrittliches Vakuum-System: | Ausgestattet mit Soft-Start-Ventil und Butterfly-Drosselklappe für eine exakte Druckregelung. |
| Intelligente Steuerung: | DSP-basierter Controller mit 10,2-Zoll-Touchscreen für intuitive Bedienung und Echtzeit-Überwachung. |
| Flexibles Rezeptmanagement: | Einfaches Speichern, Laden und Übertragen von Prozessrezepten. |
| Umfassendes Monitoring: | Grafische Darstellung der Prozessparameter in Echtzeit. |
| Kompaktes Design: | Platzsparende Systemabmessungen inklusive externem Chiller und leistungsstarker Vakuumpumpe. |
Reaktives Ionenätzen (Reactive Ion Etching) – Vertikale Kammer
| Prozessmodus: | RIE |
| Elektrodengröße: | 9,2 Zoll (Beladung bis zu 12″-Wafer) |
| RF-Generator: | 13,56 MHz / 600 W (optional 1.000 W) |
| MFC (Massendurchflussregler): | Max. 200 sccm |
| Druckbereich: | Atm ~ 5 x 10-4 Torr |
| Betrieb: | Manuell & automatisch |
| Abmessungen: | B 748 × T 1.139 × H 1.220 (mm) |
file_downloadfemto-science-vita-series.pdf
- Verbindungshalbleiter
- Fehleranalyse
- Forschung und Entwicklung (F&E)
- Pilotlinie (oder Vorserienfertigung)