Filter & Diffusoren

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By ASFLOW

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Interessante Produkte für Sie:

Fittings

ASFLOW-Präzisionsfittings sind für Halbleitergassysteme konzipiert und gewährleisten ultrahochreine sowie zuverlässige Verbindungen. Hergestellt aus SUS316L- und VIM-VAR-Edelstahl…

Ventile & Regler

ASFLOW Präzisionsventile und -regler sind für hochreine Gasversorgungssysteme in der Halbleiterfertigung konzipiert und gewährleisten eine präzise…

Product Type:

Equipment


Application:

Trockenprozesse & UHP


Product Description:

Filter und Diffusoren sind präzisionsgefertigt für ultrahochreine (UHP) Gasversorgungssysteme in der Halbleiter-, MEMS-, LED-, Photovoltaik- und anderen Hochtechnologieindustrien.
Diese Komponenten gewährleisten maximale Prozesssicherheit durch zuverlässige Partikelrückhaltung bis zu 0,0025 µm (LRV9), hervorragende Korrosionsbeständigkeit und einen äußerst geringen Druckabfall.

Gefertigt aus SUS316L-Edelstahl oder Hastelloy C-22 erfüllen ASFLOW-Filter und -Diffusoren die strengen SEMI-Oberflächenanforderungen (Ra ≤ 5 µinch bzw. <0,25 µm für Großfilter) und durchlaufen rigorose Helium-Lecktests (≤ 1×10⁻¹⁰ atm·cc/sec) sowie Partikelvalidierungen gemäß SEMI F70-Standards.

 

Produktspektrum von ASFLOW:

  • Edelstahl-Gasfilter für allgemeine UHP-Anwendungen
  • Hastelloy-Gasfilter für korrosive Gase
  • Dichtungsfilter für Point-of-Use-Schutz (bis zu 0,3 µm)
  • Großgasfilter für Hochdurchflussleitungen bis zu 20.000 SLPM
  • Diffusoren zur Gasverteilung mit null Partikelabgabe

Erhältlich in verschiedenen Größen (1/4″ bis 2″), Anschlussarten (männlich, weiblich, LOK, Stumpfschweißen, Flansch) sowie in kundenspezifischen Designs auf Anfrage.
Alle Produkte sind ultrarein, in Reinräumen verpackt und zertifiziert für den Einsatz in den anspruchsvollsten UHP-Gasversorgungssystemen.


Gehäusematerial: SUS316L / Hastelloy C-22 (je nach Typ)
Filtrationseffizienz: ≥ LRV9 bis zu 0,0025 µm (Standardfilter) / 0,3 µm (Dichtungsfilter)
Nenn-Durchfluss: 20 SLPM bis 20.000 SLPM (je nach Typ)
Max. Eingangsdruck: bis zu 21 MPa (210 bar)
Max. Differenzdruck: bis zu 15 MPa (153 bar)
Max. Betriebstemperatur: bis zu 460 °C (bei Inertgas)
Oberflächenrauheit: ≤ Ra 5 µinch (Standard) / < 0,25 µm (Großfilter)
Heliumleckrate: ≤ 1×10⁻¹⁰ atm·cc/sec
Partikelvalidierung: Keine Partikelabgabe gemäß SEMI F70-0302
Anschlüsse: Außengewinde, Innengewinde, LOK, Stumpfschweißung, Flansch
Größen: 1/4″, 3/8″, 1/2″, 3/4″, 1″, bis 2″
Sonderausführungen: Auf Anfrage erhältlich

 

file_downloadasflow-brochure.pdf

  • Halbleiterfertigung
  • Herstellung von MEMS (Mikro-Elektro-Mechanische Systeme)
  • Produktion von Flachbildschirmen
  • Herstellung von Photovoltaikzellen
  • LED-Produktion
  • Forschung & Entwicklung (F&E) für hochreine Gassysteme
  • Großgasmengen-Filtration und -Diffusion in kritischen Prozessleitungen



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