Sirus T2 Tischplatte RIE

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By TRION

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Product Type:

Equipment


Application:

Etching


Product Description:

Der Sirus T2 Reactive Ion Etcher ist ein grundlegendes Plasmaätzsystem, das entwickelt wurde, um Dielektrika und andere Filme zu ätzen, die fluorbasierte Chemikalien erfordern. Der geringe Platzbedarf und das robuste Design machen es ideal für die Laborumgebung.


Tool-Standardfunktionen

  • Sirus T2 Reaktor mit 200mm Bodenelektrode
  • Systemcontroller (enthält Pentium™-basierte Computer- und Touchscreen-Schnittstelle)
  • Zwei Massenstromregler
  • AutomatischeS Tuning mit 13,56 MHz 600 Watt HF-Generator
  • Emergency Off-System
  • Automatisches Druckregelpaket (Schmetterlingsventil mit Kapazitätsmanometer zur Druckmessung)
  • 12 Monate eingeschränkte Garantie

Optionale Funktionen

  • Umwälztemperaturregler
  • Bis zu zwei zusätzliche Massenstromregler

Pumpen

  • 170 l/s Turbo
  • 23.3 cfm Drehschieberpumpe mit Ölfiltration, Demister und Fomblinöl
  • Das Sirus T2-System benötigt eine Schrupppumpe und entweder einen Kühler oder Einkühlwasser mit mehr als 4 M Ohm Widerstand.

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  • MEMS, Solid State Lighting, Failure Analysis, Research & Development, Pilot Line.
  • Fluorine Etch Processes (SF6, CF4, CHF3, O2)
  • Carbon
  • Si
  • Epoxy
  • SiO2
  • InSb
  • Si3N4
  • Ir
  • SiC
  • Mo
  • Ta
  • Nb
  • TaN
  • OxyNitride
  • TiW
  • Polyimide
  • TiN
  • Pr (e.g: SiLK or SU8)
  • W
  • Quartz


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