Product Type:
Equipment
Application:
Etching
Product Description:
Der Sirus T2 Reactive Ion Etcher ist ein einfaches Table Top Plasmaätzsystem zum Ätzen von Dielektrika und anderen Schichten, die fluorbasierte Chemikalien benötigen. Durch die kleine Stellfläche und das robuste Design eignet es sich hervorragend für Laborumgebungen.
Merkmale
- Sirus T2 Reaktor mit 200mm Elektrode
- Systemcontroller (enthält Pentium™-basierte Computer- und Touchscreen-Schnittstelle)
- Zwei Massenstromregler
- Automatisches Tuning mit 13,56 MHz 600 Watt HF-Generator
- Emergency Off-System
- Automatische Druckregelung
- 12 Monate Garantie
Optionale Funktionen
- Umwälztemperaturregler
- Bis zu zwei zusätzliche Massenstromregler
Pumpen
- 170 l/s Turbopumpe
- 23.3 cfm Drehschieberpumpe mit Ölfiltration, Demister und Fomblinöl
- Das Sirus T2-System benötigt vor der Turbupumpe eine weitere Vakuumpumpe und entweder einen Kühler oder Einkühlwasser mit mehr als 4 M Ohm Widerstand.
file_downloadSirus-T2-RIE-Brochure.pdf
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- MEMS, Solid State Lighting, Failure Analysis, Research & Development, Pilot Line.
- Fluorine Etch Processes (SF6, CF4, CHF3, O2)
- Carbon
- Si
- Epoxy
- SiO2
- InSb
- Si3N4
- Ir
- SiC
- Mo
- Ta
- Nb
- TaN
- OxyNitride
- TiW
- Polyimide
- TiN
- Pr (e.g: SiLK or SU8)
- W
- Quartz