By AXUS
Supplier InfoProduct Type:
Equipment
Application:
CMP
Product Description:
AXUS-Technology ist spezialisiert auf die Aufbereitung von CMP, Wafer Grinding & Wafer Cleaning Equipment sowie auf die Lieferung von Upgrades und Ersatzteilen.
Die IPEC 776 ist die am weitesten verbreitete CMP-Plattform, die in trockenen, trockenen Orbitalbahnen installiert ist.
Die 776 umfasst ein vollautomatisches Wafer-Handhabungssystem mit einer Sprühstation, die dazu dient, Slurry-Partikel zu entfernen und die Wafer während des gesamten Prozesses feucht zu halten.
Unsere Wafer-Planarisierer
Integrierter doppelseitiger PVA-Reiniger
Be-/Entladestation mit drei Kassettenschränken
Buff Station
Erweiterte Pad-Bewegungssteuerung
Hochgeschwindigkeits-Polierantrieb (0-600 U/min)
Delta-P-Regelung mit geschlossenem Regelkreis
Endpunkt-Erkennungssystem
Roboter R1/R2/R3 ausgerüstet
Glocke aus poliertem Edelstahl
Pad-Aufbereiter (2)
Aufgerüsteter 500MHz-Pentium
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Production-proven for oxide, shallow trench isolation (STI), polysilicon, tungsten, and copper planarization applications