Product Type:
Metrology & Handling
Application:
H2 Purity Control
Product Description:
Der Power+Energy HEMS™ Hydrogen Purity Analyzer ist ein Vollspektrum-Instrument mit Nachweisgrenzen pro Verunreinigung von 1 ppb*. Der Analysator ist selbstkalibrierend und kann mit einer kurzen analytischen Zykluszeit als Online-Unreinheitsmonitor eingesetzt werden. Das kompakte Paket und die automatische Bedienung machen es einfach, für eine schnelle Probenüberprüfung an mehreren Punkten zu verwenden.
Der Analysator HEMS (Hydrogen Elimination Measurement System) nutzt die patentierte Palladiumdiffusionstechnologie von P+E in Kombination mit fortschrittlicher Quadrupol-Massenspektrometrie, um eine Auflösung von Unterteilen pro Milliarde zu erzielen.
Im Vergleich zu anderen Analysatoren bietet HEMS die Erkennung der breitesten Palette von Verunreinigungen in einem kompakten Gehäuse mit automatisiertem Betrieb zu erschwinglichen Kosten.
Systemspezifikationen
H2 Einlassreinheit: 99,97 €
Nachweisgrenze 1 Teil pro Milliarde (ppb)
Reaktionszeit 5-10 Minuten (typisch)
Einlassdruck > 40 [2 .8 Barg] psig ; 165 psig [11 .4 Barg] (typisch); Skalierbare Systeme auf Anfrage
Analyse durchflussmenge 2000 sccm (maximal)
Spülung (N oder Argon) 70 – 90 psig [4 .8 – 6.2 Barg]
Anschlusstypen 1/4″ mVCR für Vent, Einlass und Spülung
Schnittstelle 6,5″ [16 .5 cm] Farbe TFT Touchscreen; USB für Reporting und Wartung
Umwelt 10 – 40°C
Leistung 100 – 240 VAC, 50/60 Hz
Abmessungen 28″ x 18,5″ [71 .1 x 47 x 63.5 cm] x 25″ Breite x Tiefe x Höhe
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Today’s semiconductor manufacturing uses Photolithography in the microfabrication process to pattern parts of a thin film or the bulk of a substrate. It uses extreme ultra violet light to transfer complex geometric patterns from a photomask to a light-sensitive chemical “photoresist” on the substrate. A series of chemical treatments then either engraves the exposure pattern into, or enables deposition of a new material in the desired pattern upon, the material underneath the photo resist.
The complex optical systems used in lithography systems are critical to shrinking the size of microchips. One way to pack more, smaller circuits onto a semiconductor is to use light with a shorter wavelength, such as ultra-violet light. At such narrow wavelengths, regular air would distort the beam path and that is why they are often operated in atmospheres of hydrogen or other gas blends.
When hydrogen atmospheres are used for lithography optics, that hydrogen must be very pure. For monitoring and validating hydrogen quality, engineers can use the parts-per-billion levels of detection found in the HEMS analyzer. The HEMS instrument can continuously sample the hydrogen quality directly from feed lines, eliminating the need for offline measurements performed by scientists in a laboratory.