Compass Spin Rinse Dryer

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By MEI / RENA

Supplier Info

Product Type:

Equipment

Application:

Wet Process

Product Description:

Der fortschrittlichste Spin Rinse Dryer der Branche.

Der Compass Spin Rinse Dryer (SRD) bietet Funktionen, die man bei noch keinem anderen Hersteller findet. Der Compass für hohe und niedrige Kassetten ist so konzipiert, dass er die Betriebskosten senkt und gleichzeitig alle Ihrer Anforderungen an die Trocknung von Wafern erfüllt bzw. übertrifft. Die zur Steuerung eingesetzte IDX Flexware bietet eine sehr fortschrittliche Prozesssteuerung mit Funktionen die nur nur beim Compass SRD von MEI zu finden sind. Höchste Zuverlässigkeit, Leistung und niedrige Betriebskosten, gepaart mit dem preisgekrönten Support von MEI, ist der Compass Spin Rinse Dryer die Trocknungslösung, der Sie vertrauen können.

Vorteile
  • niedrige Betriebskosten
  • Reduktion des N2-Verbrauchs
  • Reduktion des DI-Wasser-Verbrauchs
  • Reduzierung der Prozesszeiten, Erhöhung des Durchsatzes
  • Verwendung von Standard-Bauteilen
Optionen
  • USB Auto-Backup
  • Automatische Tür
  • Feuchte-Sensor
  • Medienanschlüsse: Chemikalien, DI, N2
  • DI-Durchflusssensor

Model Compass SRD Single Compass SRD Double
No. of Dryers One Two
Type Bench or stand-alone Stand-alone
Cassettes Low profile, high profile Low profile, high profile
Chamber Capacity Multiple wafer sizes for low and high profile
cassettes. Available wafer sizes are
dependent upon product carrier type
Door Opening Right, left Right, left
Voltage (per chamber) 240 VAC 50 Hz, 8 A 240 VAC 50 Hz, 15 A
Facilities N2: 1/2” O.D. @ 4–6 CFM, 30–35 PSI
DI: 1/2” O.D. @ 1.5–2 GPM, Max 25–30 PSI
Clean Dry Air: 3/8” OD @ 40–50 PSI, 110–140LPM
Drain Connection: 1” NPT

  • Drying of wafer batch with up to 25 wafers

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